美國MKS INSTRUMENTS成立于1961年，作為半導體零部件的供應商，在氣體、真空儀器及制程控制應用等方面有技術獨到之處.美國MKS INSTRUMENTS電源、測量、控制和復雜氣體相關的工藝監(jiān)控技術等改善了設備的完好率和產(chǎn)品成品率，提高了生產(chǎn)產(chǎn)量和產(chǎn)品性能．
MKS 是先進生產(chǎn)工藝控制設備供應商之一， 其產(chǎn)品廣泛地應用于各種半導體器件生產(chǎn)， 平板顯示器， 光學儲存介質(zhì)， 玻璃鍍膜， 光電產(chǎn)品等生產(chǎn)設備及制藥和醫(yī)學成像設備。 MKS 前瞻性的創(chuàng)新開發(fā)， 推動其產(chǎn)品一直處于技術地位。 MKS 的電源， 測量， 控制和復雜氣體相關的工藝監(jiān)控技術， 改善了設備完好率和產(chǎn)品成品率， 提高了生產(chǎn)產(chǎn)量和產(chǎn)品性能。
   MKS流量計,MKS薄膜真空計,MKS傳感器,MKS開關,MKS壓力傳感器,MKS真空硅
按照真空計測量原理所利用的不同的物理機制，可將主要的真空計分為三大類，分別是利用力學性能、利用氣體動力學效應和利用帶電粒子效應的真空計。
利用力學性能的真空計典型的有波爾登規(guī)（Bourdon）和薄膜電容規(guī)；利用氣體動力學效應的典型真空計有皮拉尼（Pirani）電阻規(guī)和熱電偶規(guī)；利用帶電粒子效應的典型真空計有熱陰極電離規(guī)和冷陰極電離規(guī)。
真空計波爾登規(guī)（Bourdon）
 波爾登規(guī) 如右圖所示，細的銅管受氣體壓力不同會有舒展現(xiàn)象，會帶動杠桿和齒輪旋轉，使得指針指示在不同刻度上，即可讀出相應的氣壓值。
這種規(guī)的測量范圍一般在100Pa至1atm。