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材料領(lǐng)域先進制樣技術(shù)研討會【蘇州站】,邀您共襄盛舉!??親愛的各位電鏡專家們,您是否對電鏡制樣技術(shù)的最新進展充滿好奇?是否渴望與業(yè)界同僚面對面交流心得?那么,這場研討會您絕對不能錯過!??電鏡制樣技術(shù),開啟材料檢測新篇章電鏡制樣技術(shù),作為材料檢測的“火眼金睛”,其重要性日益凸顯。本次研討會,我們將深入探討精密定點加工技術(shù)在電子半導(dǎo)體、高分子、新能源等領(lǐng)域的創(chuàng)...
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靶材是制備薄膜的主要材料之一,主要用于集成電路、平板顯示、太陽能電池、記錄媒體、智能玻璃等,對材料純度和穩(wěn)定性要求高。濺射靶材的原理如下:濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體即為濺射靶材。靶材的發(fā)展趨勢是高濺射率、晶粒晶向控制、大尺寸、高純金屬。一般按照不同應(yīng)用領(lǐng)域可分為半導(dǎo)體靶材、磁記錄靶材、光記錄靶材、顯...
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徠卡超薄切片機可進行半薄和超薄切片,為光學(xué)顯微鏡,透射電子顯微鏡,掃描電子顯微鏡和原子力顯微鏡提供的切片。符合人體工程學(xué)的外觀設(shè)計,內(nèi)部精密機械設(shè)計,直觀的觸摸屏控制面板設(shè)計,在LeicaEMUC6三個LED照光點(頂燈、背光燈及樣品透過照明燈)基礎(chǔ)上,在原頂燈兩側(cè)新增兩個LED點照光,通過聚焦光束照明,方便觀察,清潔刀鋒或冷凍超薄切片。切片機可獨立于操作人員自行修塊,這得益于創(chuàng)新的全馬達驅(qū)動刀臺,以及自動修塊功能,實現(xiàn)自動修塊并自動停止。符合人體工學(xué)設(shè)計,不論左手習(xí)慣還是右...
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液體導(dǎo)電膠是具有一定導(dǎo)電性能的膠黏劑,應(yīng)用于液晶顯示屏(LCD)、發(fā)光二極管(LED)、集成電路(IC)芯片、印刷線路板組件(PCBA)、點陣塊、陶瓷電容、薄膜開關(guān)、智能卡、射頻識別等電子元件和組件的封裝和粘接,有逐步取代傳統(tǒng)的錫焊焊接的趨勢。導(dǎo)電高分子材料的制備較為復(fù)雜、離實際應(yīng)用還有較大的距離,因此廣泛使用的均為填充型導(dǎo)電膠。液體導(dǎo)電膠的性能與哪些因素相關(guān):1.導(dǎo)電粒子類型在導(dǎo)電粒子表面和形狀相近的條件下,導(dǎo)電粒子本身的電阻率越小,導(dǎo)電膠的性能越好。2.導(dǎo)電粒子用量隨導(dǎo)電...
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液體導(dǎo)電膠的導(dǎo)電機理被認為主要是導(dǎo)電粒子之間的相互接觸,形成電的通路,使導(dǎo)電膠具有導(dǎo)電性。膠層中導(dǎo)電粒子間的穩(wěn)定接觸是由于導(dǎo)電膠的固化或干燥形成的。含有溶劑的導(dǎo)電膠,在固化或者干燥前,導(dǎo)電粒子在膠黏劑中是分離存在的,相互間沒有連續(xù)接觸,因而處于絕緣狀態(tài)。導(dǎo)電膠固化或者干燥后,由于溶劑的揮發(fā)和膠黏劑固化而引起膠黏劑體積收縮,使得導(dǎo)電粒子相互間呈穩(wěn)定的連續(xù)接觸,因而呈現(xiàn)導(dǎo)電性。液體導(dǎo)電膠的應(yīng)用實例:1.液體導(dǎo)電膠用于微電子裝配,包括細導(dǎo)線與印刷線路、電鍍底板、陶瓷被粘物的金屬層、...
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液體導(dǎo)電膠主要由樹脂基體、導(dǎo)電粒子和分散添加劑、助劑等組成。目前市場上使用的導(dǎo)電膠大都是填料型。導(dǎo)電膠要求導(dǎo)電粒子本身要有良好的導(dǎo)電性能粒徑要在合適的范圍內(nèi),能夠添加到導(dǎo)電膠基體中形成導(dǎo)電通路。導(dǎo)電填料可以是金、銀、銅、鋁、鋅、鐵、鎳的粉末和石墨及一些導(dǎo)電化合物。對于導(dǎo)電膠的選擇依據(jù)我們主要看這幾點:1.屏蔽效能各種需要進行導(dǎo)電膠點膠加工的產(chǎn)品的不同的性能,就需要考慮到導(dǎo)電膠的技術(shù)參數(shù)。2.導(dǎo)電膠固化后的硬度構(gòu)件在裝配后,導(dǎo)電膠在高度方向上需要有30%-50%的壓縮,才能達到...
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真空鍍膜儀是一款多功能型真空鍍膜系統(tǒng)設(shè)備,用于制備超薄、細顆粒的導(dǎo)電金屬膜和碳膜,以適用于FE-SEM和TEM超高分辨率分析所需的鍍膜要求。全自動臺式鍍膜儀包含內(nèi)置式無油真空系統(tǒng)石英膜厚監(jiān)控系統(tǒng)和馬達驅(qū)動樣品臺。真空鍍膜儀的濺鍍一般是指磁控濺鍍,歸于高速低溫濺鍍法。該技能請求真空度在1×10-3Torr擺布,即1.3×10-3Pa的真空狀況充入慵懶氣體氬氣(Ar),并在塑膠基材(陽極)和金屬靶材(陰極)之間加上高壓直流電,因為輝光放電發(fā)生的電子激起慵懶氣體,發(fā)生等離子體,等離...
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離子切割儀可以靈活選擇多種樣品臺,不僅適用于高通量實驗,也適合于特定制樣需求實驗室。離子切割配合不同的工作氣體可以切割各種氧氣切割難以切割的金屬,尤其是對于有色金屬(不銹鋼、鋁、銅、鈦、鎳)切割效果更佳。其主要優(yōu)點在于切割厚度不大的金屬的時候,離子切割速度快,尤其在切割普通碳素鋼薄板時,速度可達氧切割法的5-6倍、切割面光潔、熱變形小、較少的熱影響區(qū)。離子切割的主要切割規(guī)范簡述如下:1.空載電壓和弧柱電壓離子切割電源必須具有足夠高的空載電壓,才能容易引弧和使離子弧穩(wěn)定燃燒。空...
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